1,3 - Dimethyl-2- 이미다 졸리 디논/DMI/N, N'- 디메틸 에틸렌 우레아 CAS 80-73-9

제품 이름 : 1,3- 디메틸 -2- 이미 미다 졸리 디논

동의어 : DMI; n, n '- 디메틸 에틸렌 우레아; DMEU

CAS : 80-73-9

MF : C5H10N2O

MW : 114.15

EINECS : 201-304-8

용융점 : 8.2도

Boilig Point : 224-226 학위

밀도 : 25도에서 1.056 g/ml

포장 : 1 L/병, 25 L/드럼, 200 L/드럼

용해도 : 물, 에탄올, 에테르, 아세톤, 클로로포름과 같은 유기 용매로는 불용하지만 석유 에테르, 시클로 헥산 등에 불용성이 있습니다.

1,3- 디메틸 -2- 이미 미다 졸리 디논 (DMI)은 일반적으로 사용되는 유기 합성 시약 및 촉매이다. 전문 표면 처리 분야에서 광범위한 응용 프로그램이 있습니다. 다음은 몇 가지 주요 응용 프로그램 측면입니다.
1. 금속 표면 처리 :1,3- 디메틸 -2- 이미 미다 졸리 디논은 금속 표면 처리, 특히 그리스, 왁스 및 기타 유기 오염 물질을 제거하기 위해 금속 표면 처리에 사용될 수 있으며, 후속 페인팅, 전기 도금 또는 용접 공정에 대한 표면 청결을 보장합니다.
2. 세척 및 에칭 :1,3- 디메틸 -2- 이미 미다 졸리 디논은 금속 표면의 활성을 개선하고 에칭 효과를 향상 시키며 금속 표면을 더 매끄럽고 균일하게 만드는 산산 세척 용액에 첨가제로 사용될 수있다.
3. 코팅 및 스프레이 페인팅 :1,3- 디메틸 -2- 이미 미다 졸리 디논은 코팅의 흐름성을 향상시키고, 접착력과 균일 성을 향상 시키며, 핀홀과 오렌지 껍질 현상을 감소시킬 수있다.
4. 높은 성능 코팅 :1,3- 디메틸 -2- 이미 미다 졸리 디논은 코팅의 서비스 수명을 연장하고, 내식성 및 내후성을 향상시킬 수있다.
5. 전자 및 반도체 산업 :1,3- 디메틸 -2-이 미다 졸리 디논은 반도체 제조 공정의 세척 및 에칭 단계에 사용되며, 이는 표면의 유기 오염 물질과 작은 입자를 정확하게 제거하여 반도체 장치의 높은 정밀도 및 신뢰성을 보장 할 수 있습니다.
6. Lithography 프로세스 :1,3- 디메틸 -2- 이미 미다 졸리 디논은 포토 페이스트를위한 용매로 사용되어 명확한 패턴을 형성하고 통합 회로의 제조 품질을 향상시킬 수 있습니다.
7. 나노 물질 및 고급 재료의 준비 :용매로서 1,3- 디메틸 -2- 이미 미다 졸리 디논은 탄소 나노 튜브의 분산 및 기능화와 같은 나노 물질의 합성 및 분산에 중요한 역할을한다.
8.composite 자료 :1,3- 디메틸 -2- 이미 미다 졸리 디논은 복합 재료의 제조에서 매트릭스를 강화하고 재료의 전반적인 성능을 향상시키는 데 도움이된다.
9. 폴리머 가공은 다양한 폴리머를 용해시킵니다.1,3- 디메틸 -2- 이미 미다 졸리 디논은 회전, 필름 및 코팅 제조에 사용된다.